激光微调是一种比较常用的电阻生产技术，我们知道金属膜电阻器是通过在高纯度陶瓷圆柱形棒上真空沉积金属层而制造的。通常，沉积的金属薄膜越厚，电阻器的值就越稳定。通常，薄膜厚度在50到250nm之间，这一区域的材料厚度往往提供更大的长期稳定性水平。许多不同的技术可以用于此，但最常见的是溅射。沉积的金属通常是镍铬，镍铬合金，但其他金属包括含铂的金，或氮化钽可能用于特殊用途。
金属膜电阻器一旦薄膜被沉积，一个金属端盖被压在沉积的金属上。这使得接触电阻膜，并已纳入导线。在制造的下一个阶段是修剪的价值的阻力所需的数字。这通常是通过使用激光在金属薄膜上切割螺旋来实现的。这延长了金属元件的长度，同时也减少了电流传送轨道的宽度，同时保持沉积材料的厚度在长期稳定的最佳范围内。
激光微调的精度意味着金属薄膜电阻可以制造出非常接近的公差。有0.1%，0.25%，0.5%，以及1%和2%的公差。1%和2%是最广泛使用的，考虑到它们的严格容差，这使得电路能够保持从一个单元到下一个单元的良好可重复性。金属薄膜电阻也能保持良好的电阻温度系数，通常在50 - 100ppm /°K之间。
金属薄膜电阻器制造的最后一步是添加保护涂层和标记。通常情况下，保护涂层由树脂组成，树脂被添加到单独烘烤的几层中。最后加入标记环以指示金属膜电阻器的值和其他相关特性。
