金属膜电阻器使用高阻靶材生产有哪些优势

来源：万利隆电子阅读量：2000发布时间：2019-01-25

金属膜电阻器耐热性高、稳定性好、噪声低、频率响应范围宽，单位面积承受功耗较高，有利于电子器件向小型化、集成化方向发展，广泛应用于仪器、仪表及通讯设备等领域，尤其适用于航空、航天、国防等高精密电子仪器。这就对金属膜电阻器提出更高的要求，包括较低的电阻温度系数、较高的抗环境变化性能和通用性。

目前磁控溅射是制备金属膜电阻器的主流技术。作为溅射源，靶材的质量制约着金属膜电阻器的电阻温度系数、精度、可靠性和稳定性。制作高质量靶材关键技术在于控制靶材组织晶粒粗化，细化晶粒尺寸。晶粒细化有利于改善靶材内部组织均匀化，提高靶材强度及硬度，延长靶材使用寿命。同时相比粗晶粒靶材，细小晶粒靶溅射速率快，成膜速率高；成分和组织均匀性较好的靶材溅射过程不易飞溅，膜层厚度均一，成膜质量高。

目前制备金属膜电阻器的靶材产品主要包括Ni-Cr、Cr-Si和Cr-SiO等几类。中国生产的高阻溅射靶材大多采用真空熔炼、浇注、热处理、机加工等工艺流程制备。产品晶粒普遍粗大，组织分布均匀性较差，导致溅射得到的金属膜电阻器的电阻温度系数在高低温区相差过大，阻值不稳定。另外制造高阻值靶材时需增加Cr、Si元素含量，由于Cr的熔点较高（1857℃），Si属半导体元素，导致合金脆性较高，内应力大，铸锭冷却过程中易出现裂纹，甚至开裂，造成靶材冶炼加工困难，金属膜电阻器成品率低。