金属薄膜电阻采用薄膜技术生产，金属薄膜电阻工业日新月异，在很多技术难题上都取得一定的突破，研发金属薄膜电阻时候人们发现金属薄膜电阻率与它的膜厚存在一定关系，而且可以通过相关函数进行计算。金属薄膜电阻率对它的应用市场具有非常重要的影响，如果提高电阻率的稳定性成文很多电阻研发的难题，今天我们就来分析一下金属薄膜电阻率与它的膜厚关系。
我们知道金属薄膜电阻率温度系数与膜厚存在一定的关系，与表面散射和晶界散射有关的电阻率是薄膜厚度与电子平均自由存在一定函数关系，由于平均自由随着电阻率温度系数时，可忽略其他因素的影响，我们只考虑它与温度的关系。我们可以从另外一种方法讨论连续金属薄膜电阻率温度系数随着厚膜的变化关系，同时我们考虑表面散射得到的薄膜电阻率，由于薄膜尺寸效应而引起电阻率变化，它们之间存在一定关系。
金属薄膜电阻生产一般采用金属膜进行制作，金属薄膜是一种重要的低维材枓，它既在电子学领域中应用广泛，又是纳米材枓领域中的重要研究对象。金属薄膜的特征尺寸是其膜厚，由于金属膜厚的变化，使得金属薄膜表现出各种异子块状金柢材料的物理特性，由此可见金柢薄膜材料的特性随膜厚的变化非常必要，对金属薄膜的主要要求是具有合适的电阻率及其溫度系数.
我们在金属薄膜电阻率问题进行研究得时候，在较薄膜厚时与实验结果有较大偏差的事实，由此可见表面散射和晶界散射必须同时考虑.薄膜中电子运动过度出于其有沿膜厚方向的分量，经多个晶粒边界散射后到达膜表面发生表面散射。因为膜厚尺寸的限制才是薄膜与块状材料特性不同的起因，所以其中晶界散射要考虑界面与膜面平行的晶界的散射。同时考虑表而散射和晶界散射，得到的连续金筏薄膜的电导车公式更符合实际情況.
金属薄膜电阻率与金属薄厚关系非常重要，对这些研究可以提高金属薄膜电阻生产使用率，有效提高金属薄膜生产技术，可以为更多金属薄膜类型得电阻器提供更多解决方案。对于金属薄膜技术电阻器来说，提高电阻率对整个产品应用市场具有重要研究价值，可以让金属薄膜电阻应用到更多电子产品。
